기가포톤, ′단파장 고출력′ 최신형 ArF엑시머 레이저 GT65A 출하

[메가경제 유원형 기자] 일본의 반도체 리소그래피 광원 주요 제조업체인 기가포톤이 최근 증가하는 반도체 수요에 대응하기 위한 신제품으로 최첨단 액침 노광 장치용인 ArF 엑시머 레이저 ‘GT65A’ 1호기를 출하했다고 발표했다.

리소그래피는 반도체의 집적회로를 제작할 때 실리콘 칩 표면에 원하는 패턴을 빛으로 조사한 수지를 칩표면에 고정한 후 화학처리하는 기술을 일컫는다. 기가포톤의 신제품인 GT65A는 레이저의 안정 가동 및 공정 마진을 향상시킴으로써 리소그래피 장치의 생산성 향상에 크게 기여한다.

ArF 엑시머 레이저는 ArF라는 엑시머로 불리는 분자를 이용한 기체 레이저를 말하며, 단파장 고출력이다.

우선 GT65A의 특징은 다운타임(시스템을 이용할 수 없는 시간)을 최대 50％ 개선한 것이다. 이는 주요 모듈인 챔버의 수명을 30％ 연장시킨 것과 기가포톤이 축적해 온 노하우를 바탕으로 한 유지보수의 효율화를 통해 실현했다고 업체는 설명했다.

기가포톤은 또한 스펙트럼 제어 기능인 안정화 기술 ‘eMPL Solid’와 컨트롤 기능 'hMPL'은 CD 균일성 향상 및 프로세스 최적화와 확장성을 가능하게 했다고 덧붙였다.

또한, GT65A는 헬륨가스를 사용하지 않도록 했다고 전했다. 이를 통해 환경부담 절감뿐 아니라 미래의 헬륨가스 공급부족이나 가격 급등 시의 리스크를 대폭 줄일 수 있게 됐다.

대표이사 사장 우라나카 카츠미는 “최근의 반도체 시장이 호황을 보임에 따라 리소그래피 장치의 가동률 향상이 각 제조업체들의 주요 과제가 되었다”며 “기가포톤은 새로운 로드맵 ‘RAM 인핸스먼트(Enhancement)’에 따른 신기술을 통해 리소그래피 광원의 신뢰성(Reliability)·가동률(Availability)·보수효율성(Maintainability)을 더욱 더 강화하고 개선하여 반도체 제조업계에 기여하겠다”고 말했다.